ВКР (Диплом)
Электрические характеристики диэлектриков на основе оксидов алюминия, титана, графния
Данное исследование посвящено прецизионному математическому моделированию и численной аппроксимации вольт-амперных и вольт-фарадных зависимостей тонкопленочных диэлектрических структур, синтезированных на основе оксидов переходных металлов и алюминия. В работе реализуется синтез классических методов математической физики с современными алгоритмами оптимизации параметров полупроводниковых структур, что позволяет с высокой точностью верифицировать физические модели переноса заряда, такие как токи, ограниченные пространственным зарядом, и эффект Френкеля-Пула. Особое внимание уделяется разработке программного комплекса для интерпретации экспериментальных данных, полученных в ведущих отечественных центрах наноэлектроники, что обеспечивает интеграцию прикладных математических методов в высокотехнологичный сектор российской полупроводниковой индустрии.
Программный комплекс на языке Python/C++, реализующий алгоритмы автоматизированной экстракции электрофизических параметров диэлектриков (диэлектрическая проницаемость, плотность ловушечных состояний, высота потенциального барьера) и сопоставительная матрица эффективности различных математических моделей аппроксимации для Al2O3, TiO2 и HfO2.
Стремительный переход микроэлектроники к топологическим нормам менее 10 нанометров диктует необходимость внедрения диэлектриков с высокой диэлектрической проницаемостью (high-k), где оксиды гафния, алюминия и титана выступают безальтернативными материалами для формирования затворов транзисторов и конденсаторов памяти. Для российской науки, представленной школами академика А.А. Орликовского (ФТИАН) и исследованиями в МФТИ, критически важным становится не только синтез пленок, но и создание адекватного математического аппарата для описании деградационных процессов и механизмов проводимости. Отсутствие универсальных аналитических решений для многослойных систем обуславливает потребность в применении численных методов и алгоритмов машинного обучения для идентификации параметров моделей, что напрямую влияет на технологический суверенитет в области квантовых вычислений и отечественной элементной базы.
Разработка и программная реализация комплекса математических моделей и алгоритмов для прецизионного анализа и прогнозирования электрических характеристик слоистых диэлектрических структур на основе оксидов алюминия, титана и гафния.
1. Провести комплексный междисциплинарный анализ теоретических моделей механизмов токопереноса в широкозонных полупроводниках и диэлектриках в контексте работ отечественных физико-математических школ.
2. Формализовать систему дифференциальных уравнений и граничных условий, описывающих распределение потенциала и плотности носителей заряда в структурах металл-диэлектрик-полупроводник.
3. Разработать алгоритм численного решения обратной задачи восстановления параметров диэлектрической пленки по экспериментальным вольт-фарадным характеристикам.
4. Создать программный модуль для статистической обработки и аппроксимации результатов измерений токов утечки с использованием методов нелинейной регрессии.
5. Выполнить сравнительный вычислительный эксперимент для оценки влияния ионного состава (Al, Ti, Hf) на стабильность электрических параметров полевых структур.
6. Верифицировать разработанное математическое обеспечение путем сопоставления полученных расчетных данных с результатами натурных экспериментов, представленных в открытых репозиториях и научных публикациях.
- Оформление по ГОСТ
- Содержание и структура уже собраны
- Подходит как пример для своей темы
